Introduction

• 用于半导体与LCD工艺的化学供给设备。 由Chemical Drum 或 Tank Lorry 储存在 Storage Tank后 传送到Supply Tank 用于 N₂ 加压及 Pumping后 供给 P.O.U

Application

• 前段工艺 Chemical 供给设备

Supply Method

• Pumping Supply
• N₂ Pressure Supply

Introduction

• 用于Chemical与 DIW Batch的方式 Blending System.
• 使用Mixing Tank Blending后, 供给Storage Tank 或 Supply Tank
• Heat Exchanger 使用

Application

• DSP (Dilute Sulfuric Peroxide) : HF, H₂0₂, H₂SO₄, DIW
• SC-1 (Standard Cleaning) : H₂0₂, NH₄OH, DIW

Supply Method

• Pumping
• N₂ Pressure Supply

Blending Method

• Batch
• In-line

Introduction

• 使用Developer与 DIW Batch 或 In-line的方式 Blending System.
• 使用Mixing Tank Blending后, 供应给Storage Tank 或 Supply Tank.
• 使用Mixing Tank与 Storage Tank 之间的 连通管 利用 自由坠落方式减少浓度 Hunting

Supply Method

• Pumping
• N₂ Pressure Supply

Blending Method

• In-Line Mixing Module & Pumping Circulation

Introduction

• 使用NH₄OH 或 HF与 DIW In-line 的方式 Blending System.
• 使用Mixing Tank Blending后, 供应给Storage Tank 或 Supply Tank.
• 使用Mixing Tank与 Storage Tank 之间的 连通管 利用 自由坠落方式减少浓度 Hunting.

Blending Method

• In-Line Mixing Module & Pumping Circulation